顺序如下:

• 从零件中获取待检试样（如有必要），称为“切割”。

• 标准化试样外观尺寸（如有必要），称为“镶嵌”。

• 提升样品表面状态，称为“研磨抛光”。

• 样品表征：（如有必要）利用腐蚀剂腐蚀样品获取微观组织信息，称为“金相腐蚀”；通过光学或电子显微镜观察。

=> 这些步骤中的每一步都必须严格执行，否则其之后的步骤将无法展开。

切割的目的是选取试样，以获得一个合适的部分进行检查，而不改变有关材料的物理化学性质。换句话说，必须避免加热或任何可能导致应变硬化的金属变形。切割是零件进一步制备和检验的基础步骤。

PRESI提供自小型精密切割机至中、大型切割设备，以适应不同切割精度、切割尺寸以及切割效率需求:

所有的切割机都使用由水基和防锈添加剂混合而成的润滑/冷却液，用于改善切割和冷却性能。添加剂还可以保护试样和切割设备免受腐蚀。

=> 切割轮的选择必须适当以避免切割失效，或过度的切割轮损耗甚至破碎。切割轮的选择主要由切割对象的硬度决定。

样品镶嵌的目的是为了包埋一些形状复杂、易碎、小尺寸的试样，方便其后续的研磨抛光操作。镶嵌技术及工艺应同时保证镶嵌气泡的排除并杜绝边缘收缩的发生。

=> 高质量的镶嵌对保护易碎材料至关重要，同时也为后续抛光和其他分析获得良好的制备结果。
镶嵌前，试样应该用粗颗粒砂纸去毛刺，例如，去除任何切割毛刺。用乙醇清洗(在超声波槽中，效率更高)。这使得树脂尽可能地粘附在样品上，从而限制收缩(树脂和样品之间的空间)。

如果持续收缩，会导致抛光过程中出现问题。磨料颗粒可能会滞留在试样缝隙中，在后期释放出来，则会对样品和抛光表面造成污染的风险。在这种情况下，建议在每个步骤之间用超声波清洗机清洗。

两种镶嵌方法:

热镶嵌可有效保护样品边缘，或为后续硬度测试需求服务（因其相较于冷镶嵌，能提供更刚性的支撑）。
该方法需经由热镶嵌机实现.

冷镶嵌更适用于:

• 脆性材料，温度/压力敏感材料

• 复杂的几何结构，如蜂窝结构样品。

• 需要镶嵌样品数量较大时。

可使用设备为:

           因为树脂的固化收缩特性，冷镶嵌试样的“背面”易形成不平整表面。在研磨抛光之前，可用砂纸简单打磨使得两端面平行。

PRESI提供直径20-50毫米的、不同材质的多种模杯，包括KM2.0“一次性”模杯，特氟龙、橡胶、聚乙烯模杯等。为应对不同使用需求，也可提供不同尺寸的长方形模具。

研磨抛光是试样制备的最后一个步骤。在每一个步骤中，均使用比之前一个步骤更细小的磨削颗粒来磨制样品表面，以最终得到一个高度平整的样品表面，消除残留的划痕和缺陷，以免影响微观分析、硬度测试、显微组织观察等实验目的。

PRESI提供一系列手动与自动研磨抛光设备，包含丰富的夹具、附件等配件，以满足从预磨直至最终抛光、单个或批次样品的工作需求。

MINITECH系列手动研磨抛光机 采用了最先进的技术，用户友好，功能强大，可靠，操作简便。

MECATECH系列台式自动研磨抛光机 即可满足手动工作，也可满足自动工作需求。凭借其先进的技术理念，750-1500瓦的电机功率，可处理各种不同材料及满足需要制备大量样品的需求。

下述所有磨抛工艺步骤均为常用的推荐信息，可根据实际工况灵活调整。

每种工艺的第一步都被称为“求平”步骤，即快速去除材料（及镶嵌树脂）表面，使其平整。

施加于样品的压力将由其面积尺寸决定。通常而言，在粗磨步骤中，每10毫米直径样品可施加1daN（10牛顿）力，即Ø40mm=4daN，并在之后的每个抛光步骤中逐步递减0.5daN。

下表为通用的铜及铜合金磨抛工艺:

使用P320砂纸已足够实现对经金相切割后的样品进行粗磨。如果粗磨步骤需要去除更多的材料，则应使用较大磨削颗粒尺寸的砂纸。

在粗磨阶段不建议底盘和工作头反向旋转，因为这会对试样表面平整度造成不利影响。然而，如果需要去除大量材料，两者反向旋转将提高工作效率。

在铜及其合金的磨抛过程中，重要的一点是使用单晶金刚石悬浮液（LDM或Gel2+MON），其具有更少的切削尖角（与多晶金刚石相比），以利于较软材料的制备。

Reflex LUB抛光润滑液将与LDM金刚石悬浮液配合使用，它可以使抛光织物充分湿润。但在任何情况下，必须注意的是不要过多地润湿抛光布，以避免其“打滑”而降低磨削效率.

第二个重要的考虑是调整（无论手动或自动抛光时）施加于样品的压力，以防止磨削颗粒嵌入。

最后，建议使用二氧化硅胶体悬浮液进行氧化物抛光。SPM二氧化硅悬浮液可最多以7倍水份稀释浓度。

在这一阶段，工作头和工作盘是反方向旋转，以尽可能多的将悬浮液保留在抛光布上。

根据结果，这一步骤也可以用PRESI n°2氧化铝悬浮液代替。

图9-14为铜和黄铜应用上述磨抛工艺的效果。

有时需要根据材料的敏感性来调整抛光工艺。下面是一个铅青铜涂层制备方法的例子：

使用合适的腐蚀剂剂可以很容易地揭示铜及其合金的微观结构。

腐蚀试剂的使用可帮助显示晶界、各种相等…

主要的腐蚀剂有:

– 氯化铁酸的乙醇溶液（图17）

– 重铬酸钾（图18）

所有展示的显微照片都是使用PRESI VIEW软件完成的: